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上海大学客户

发布时间:2020-04-16  浏(liu)览(lan)次数:2159

潘老师带(dai)领课题小组成员莅(li)临我公司(si)参观考察(cha),由我公司(si)创始(shi)人徐晓冬教授亲(qin)自(zi)接待。

潘老师对(dui)我公司的PECVD设备的具体参(can)数做了详细了解,对(dui)该设备在演示过(guo)程中的出色表现(xian)给予(yu)了充(chong)分肯(ken)定。


PECVD简介:

该产(chan)品是由固态等离(li)子源、气体(ti)质子流量(liang)控(kong)制(zhi)系统(tong)、衬底(di)控(kong)温系统(tong)、真空系统(tong)组成,采用集中(zhong)总线控(kong)制(zhi)技术的诺巴迪操作软件。适用于室温至1200℃条(tiao)件(jian)下进(jin)行(xing)SiO2、SiNx薄膜的沉积,同(tong)时可实现(xian)TEOS源(yuan)沉积SiC膜(mo)(mo)层沉积以及液态气态源沉积其它材料,尤其适(shi)合(he)于有机材料上(shang)高效保护层膜(mo)(mo)和特(te)定(ding)温度下无损伤钝(dun)化(hua)膜(mo)(mo)的沉积。


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