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中科院新疆理化所

发布时间:2020-04-16  浏览(lan)次数:2557

中国(guo)科学院新疆理化(hua)技(ji)术研究所(suo)引进了我公司设(she)计生产的(de)高真(zhen)空(kong)CVD系统(tong),研究所(suo)王(wang)老师对我们的(de)产品和服务给予了充分(fen)的(de)肯(ken)定!


CVD系统HR1200-110ITD3F

设备简介:

化学气相沉(chen)积(CVD)是指化学气体或蒸汽在(zai)基质表面反应合成涂(tu)层或纳米材料的(de)方法(fa),是(shi)半导体(ti)工业(ye)中(zhong)应用最(zui)为广泛的(de)用来沉(chen)积薄膜材料的(de)(de)技(ji)术(shu),包(bao)括(kuo)大范围的(de)(de)绝(jue)缘(yuan)材料,以(yi)及(ji)大多数金属材料和金属合金材料。为(wei)此我们(men)研(yan)发成套的CVD镀膜系统,适(shi)用于各(ge)大(da)高校材料(liao)实验室、科(ke)研院所、环保(bao)科(ke)学(xue)等领(ling)域;


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